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  • JS抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機
    抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時長及保持時間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時提升膠層與基片的黏附強度?。
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  • JS抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統(tǒng)
    抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統(tǒng) 硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類重要的有機硅化合物,在材料表面改性、復(fù)合材料增強、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。
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  • 智能型HMDS涂膠機,自動HMDS涂膠鍍膜機
    智能型HMDS涂膠機,自動HMDS涂膠鍍膜機也稱為HMDS處理,是用于使晶片表面呈疏水性的處理。
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  • HMDS涂膠機,智能型HMDS涂 膠機
    HMDS涂膠機,智能型HMDS涂 膠機將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
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  • 光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機
    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關(guān)鍵步驟。
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