智能型圖形反轉(zhuǎn)系統(tǒng)  充氮氣圖像翻轉(zhuǎn)設(shè)備用途： 

      光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對分解率來實現(xiàn)。

   智能型圖形反轉(zhuǎn)系統(tǒng)適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。

智能型圖形反轉(zhuǎn)系統(tǒng)特點：

NH3監(jiān)測,報警提示功能

工藝數(shù)據(jù)記錄功能

程序鎖定保護等功能

智能型圖形反轉(zhuǎn)系統(tǒng)  充氮氣圖像翻轉(zhuǎn)設(shè)備技術(shù)性能：

1.尺寸（深*寬*高）

內(nèi)腔尺寸：300×300×300

      450×450×450（mm）（可定制）

2. 材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用 316L 級不銹鋼

3.溫度范圍：RT+50-200℃

4.溫度分辨率：0.1℃

5.溫度波動度：≤±0.5

6 真空度：≤133pa（1torr）

7.電源及總功率：AC 220V±10% / 50HZ，總功率約2.8KW

8.控制儀表：人機界面，一鍵運行

9.擱板層數(shù)：2 層

10.工藝氣體：2/3路

11.真空泵：無油渦旋真空泵

智能型圖形反轉(zhuǎn)真空系統(tǒng)工藝標準  

   圖形反轉(zhuǎn)工藝的主要步驟為將涂膠的晶圓放置在智能型圖形反轉(zhuǎn)真空系統(tǒng)中,穿透光刻膠，改變其極性。將再進行泛光曝光，從而完成整個圖形反轉(zhuǎn)工藝。反轉(zhuǎn)工藝的效果是改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對分解率，在接下來的顯影步驟便可以實現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)了。這一工藝可以實現(xiàn)與非圖形反轉(zhuǎn)工藝同樣的分辨率.