硅片清洗設(shè)備，硅片全自動(dòng)清洗機(jī)應(yīng)用于集成電路，MEMS器件，微波器件，先進(jìn)封裝等工藝。去膠清洗設(shè)備，顯影清洗設(shè)備，酸堿刻蝕機(jī)。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，外延片清洗（砷化鎵，氮化鎵，碳化硅，鈮酸鋰等

產(chǎn)品型號(hào)：
廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新時(shí)間：2025-09-16
訪(fǎng) 問(wèn) 量：3015

立即咨詢(xún)

聯(lián)系電話(huà)：021-31434441

產(chǎn)品詳情

硅片清洗設(shè)備，硅片全自動(dòng)清洗機(jī)的重要性：
半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。無(wú)機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。
硅片清洗設(shè)備，硅片全自動(dòng)清洗機(jī)?的應(yīng)用：
集成電路，MEMS器件，微波器件，先進(jìn)封裝等工藝。去膠清洗設(shè)備，顯影清洗設(shè)備，酸堿刻蝕機(jī)。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，外延片清洗（砷化鎵，氮化鎵，碳化硅，鈮酸鋰等

在線(xiàn)咨詢(xún)

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話(huà)：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說(shuō)明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫(xiě)阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：刻蝕機(jī)，半導(dǎo)體刻蝕臺(tái)
下一篇：桌上型高低溫試驗(yàn)箱，小型低溫箱

電話(huà)：TEL
021-31434441
郵箱：EMAIL
junsish@163.com
傳真：FAX
86-021-60649603

技術(shù)支持：環(huán)保在線(xiàn) 管理登錄 sitemap.xml

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話(huà)：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說(shuō)明：

驗(yàn)證碼：