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  • 前烘潔凈烘箱,半導體工藝烤箱
    前烘潔凈烘箱,半導體工藝烤箱,用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤,強制送風循環(huán)方式。
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  • 半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱
    半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。
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  • 半導體工藝潔凈烘箱,百級無塵烘箱
    半導體工藝潔凈烘箱,百級無塵烘箱具有*設(shè)計的強鼓風循環(huán)系統(tǒng)確保了溫度的穩(wěn)定性,高效循環(huán)過濾系統(tǒng)確保箱內(nèi)的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數(shù)顯控溫(可選觸摸屏等),直觀醒目,設(shè)有可靠性保護裝置。
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  • HMDS烘箱,半導體工藝HMDS設(shè)備
    HMDS烘箱,半導體工藝HMDS設(shè)備有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
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  • RTP快速退火爐,半導體工藝快速熱處理設(shè)備
    RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)簡介 快速熱處理設(shè)備(RTP)可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料,離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩(wěn)定等特點。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。
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